Himicheskoe osazhdenie iz gazovoj fazy stekloobraznyh tonkih plenok

Ruský jazyk

Himicheskoe osazhdenie iz gazovoj fazy stekloobraznyh tonkih plenok

Vydavateľstvo: LAP LAMBERT Academic Publishing
Rok vydania: 2018
Formát: Paperback
Rozmer: 220 x 150 mm
Jazyk: Ruský jazyk
ISBN: 9786137329252

Na objednávku, dodanie 2-4 týždne

78.57 €

bežná cena: 87.30 €

O knihe

Oblast' monografii - poluchennye metodami himicheskogo osazhdeniya iz gazovoj fazy (HOGF) tonkie neorganicheskie stekloobraznye plenki, ispol'zuemye v tehnologiyah mikrojelektroniki, mikro- i nanosistemnoj tehniki, optojelektroniki. Na osnovanii ob#emnogo jexperimental'nogo materiala, v tom chisle poluchennogo lichno avtorom i kollektivami pod rukovodstvom avtora, proanalizirovany processy HOGF i svojstva tonkih plenok nitrida kremniya, dioxida kremniya, fosfor- i borsilikatnyh tonkih plenok. Sozdany osnovnye predstavleniya o kinetike rosta plenok pri HOGF. Ustanovleny kolichestvennye kriterii i obosnovana kineticheskaya shema processov HOGF, predlozheny sposoby optimizacii processov i apparatury HOGF. Ispol'zovany sovremennye metody issledovanij struktury, sostava i svojstv tonkih plenok. Predlozheny shemy stroeniya plenok stekol, izlozheny podhody k optimizacii tonkoplenochnyh materialov. Vydeleny osnovnye istoricheskie jetapy razvitiya processov HOGF tonkih plenok primenitel'no k tehnologii mikrojelektroniki, sformulirovany zadachi i napravleniya dal'nejshego razvitiya. Rekomenduetsya magistrantam i aspirantam tehnicheskih universitetov, issledovatelyam i tehnologam sovremennyh naukoemkih proizvodstv.