- Anglický jazyk
Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Autor: W. N. G. Hitchon
An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.
Na objednávku, dodanie 2-4 týždne
84.60 €
bežná cena: 94.00 €
O knihe
An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.
- Vydavateľstvo: Cambridge University Press
- Rok vydania: 2005
- Formát: Paperback
- Rozmer: 254 x 178 mm
- Jazyk: Anglický jazyk
- ISBN: 9780521018005