• Anglický jazyk

Plasma Processes for Semiconductor Fabrication

Autor: W. N. G. Hitchon

An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.

Viac o knihe

Na objednávku, dodanie 2-4 týždne

84.60 €

bežná cena: 94.00 €

O knihe

An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.

  • Vydavateľstvo: Cambridge University Press
  • Rok vydania: 2005
  • Formát: Paperback
  • Rozmer: 254 x 178 mm
  • Jazyk: Anglický jazyk
  • ISBN: 9780521018005

Generuje redakčný systém BUXUS CMS spoločnosti ui42.