Studio di nanoindentazione su leghe a memoria di forma a film sottile NiTi

Taliansky jazyk

Studio di nanoindentazione su leghe a memoria di forma a film sottile NiTi

Vydavateľstvo: Edizioni Sapienza
Rok vydania: 2020
Formát: Paperback
Rozmer: 220 x 150 mm
Jazyk: Taliansky jazyk
ISBN: 9786202644259

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bežná cena: 27.70 €

O knihe

Un singolo campione a due strati composto da un monostrato di Ni e un monostrato di Ti con lo strato di Ni come strato di base è stato depositato su un substrato di silicio. Durante la deposizione, il substrato è stato ruotato ad una velocità predefinita. Gli strati come depositati sono stati poi ricotti a temperature di 300 ¿ C, 400 ¿ C, 400 ¿ C, 500 ¿ C e 600 ¿ C, per un periodo di tempo di 1 ora in un forno sottovuoto al fine di raggiungere la cristallinità negli strati come depositati e formare un unico strato cristallino e anche ai fini dell'omogeneità chimica. La tesi tratta il processo di produzione delle leghe a memoria di forma a film sottile NiTi e la caratterizzazione della loro morfologia, nonché le proprietà meccaniche dei film sottili come la durezza, il modulo elastico ridotto e quindi il modulo elastico, il tasso di usura e quindi la resistenza all'usura, il rapporto di recupero della profondità e di conseguenza le proprietà super elastiche. I film sono stati prodotti in una macchina sputtering magnetronica DC/RF su un substrato Si accuratamente pulito tenuto ad una temperatura di 300 ¿ C da due materiali target Ni e Ti puri al 99,99 % da 75 mm Ni e Ti in un'atmosfera inerte composta da Argon puro al 99,99 %. Durante la deposizione, il substrato è stato ruotato ad una velocità predefinita.